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冷熱沖擊設(shè)備在芯片失效分析領(lǐng)域中的應(yīng)用

　更新時間：2023-11-14　點擊量：537

去除表面鈍化層、金屬化層和層間介質(zhì)后有時依然無法觀察到失效點，這時候就需要對芯片進行進一步處理，對于多層布線的芯片干法腐蝕或者濕法腐蝕來逐一去除，直至最后一層金屬化和介質(zhì)層。去玩所有的金屬化層和介質(zhì)層后，有時候還需要去除多晶硅層、氧化層等直至露出硅本體。

由于層間介質(zhì)的材料與鈍化層材料種類基本相同，因此層間介質(zhì)的去除也是類似的，也是主要分為干法腐蝕和濕法腐蝕兩種。以高低溫沖擊設(shè)備為例，其能夠提供特性分析、高低溫溫變測試、溫度沖擊測試、失效分析等可靠性試驗。

1、高低溫沖擊機輸出氣流罩將被測試品罩住，形成一個較密閉空間的測試腔，試驗機輸出的高溫或低溫氣流，使被測試品表面溫度發(fā)生劇烈變化，從而完成相應(yīng)的高低溫沖擊試驗；

2、可針對眾多元器件中的某一單個IC或其它元件，將其隔離出來單獨進行高低溫沖擊，而不影響周邊其它器件，與傳統(tǒng)冷熱沖擊試驗箱相比，溫變變化沖擊速率更快。

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